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香港將成立本地首個第三代半導(dǎo)體氮化鎵外延工藝研發(fā)中心

香港科技園公司與麻省光子技術(shù)(香港)有限公司7月30日簽署合作協(xié)議,將于香港科學(xué)園內(nèi)設(shè)立全香港首個第三代半導(dǎo)體氮化鎵外延工藝全球研發(fā)中心,并于創(chuàng)新園開設(shè)首條超高真空量產(chǎn)型氮化鎵外延片中試線。

氮化鎵(GaN)是一種堅硬且非常穩(wěn)定的第三代半導(dǎo)體材料,可在高溫和高電壓下進行長時間運作。此次在港設(shè)立的研發(fā)中心,將聚焦開發(fā)8寸氮化鎵外延片工藝及設(shè)備平臺,用于制作氮化鎵光電子和功率器件。相關(guān)中試線將耗資2億港元,設(shè)立投產(chǎn)后,會進行氮化鎵外延片的小批量生產(chǎn)。

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